通过采用光刻新技术对生产效率提升以及可持续性做出重大贡献

?木县小山市--(美国商业资讯)--半导体光刻光源制造商 Gigaphoton株式会社（总部：?木县小山市、董事长兼总经理：浦中克己）宣布，开始批量生产新型KrF光刻机用光源“G60K”。

在全球半导体供应短缺依然持续的背景下，由于对RF通信处理和车载半导体等的40 nm以下成熟节点的半导体需求不断增加，以及采用3D NAND生产技术后层数的增加使容量得以扩大，预计到2023年对KrF光刻的需求将增加240%（与2019年相比）。*

自2020年11月推出以来，Gigaphoton新型KrF光刻光源G60K受到用户的好评，为了满足消费者较高的需求，从今年11月开始批量生产。G60K的一个主要特点是可以应对行业对生产效率提升以及可持续性的需求。通过60W高功率输出提高曝光设备的处理能力，模块耐用性提升减少了维护时间，从而实现生产效率的提高。改进后的新型电源可节省超过5%的耗电量，在实现可持续性的同时，还可以降低用户的成本。另外，G60K的平台可以将输出功率扩展到90W，可以满足未来市场对生产效率进一步提升的需求。

Gigaphoton董事长兼总经理浦中克己表示：“Gigaphoton会持续对成熟工艺节点的研发进行投资，提供充分运用最先进技术的产品，为提高客户的生产效率以及可持续性做出贡献。”

* 利用本公司的KrF曝光设备对半导体晶片处理数量进行分析

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作为半导体光刻用DUV光源研发和制造的领先企业，Gigaphoton公司从成立伊始就向世界半导体制造商提供许多运用最先进技术的解决方案。Gigaphoton还致力于研发EUV光源以及光刻领域之外的DUV光源研发。GIGAPHOTON不仅拥有强大的研发团队，在制造、销售、维护服务也拥有知识丰富的专业团队，我们会继续从客户视角出发，持续地提供行业最高水平的服务。
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